Phasengrenze Metall/Oxid zur Phasengrenze Oxid/Elektrolyt ableiten. H. Lüdering' © fand im bec 
Gegensatz dazu bei der Deckschichtbildung von geseigertem, siliziumhaltigen Eisen im Passiv- Fer 
gebiet ein parabolisches, also ein \/t-Gesetz. Da die Wachstumsgeschwindigkeiten der den 
Schichten rasch mit der Zeit abfallen, ist es verständlich, daß die Schichtdicken nach Mni 
längeren Ätzzeiten, wie in Fig. 7 zu ersehen ist, nur noch wenig zunehmen. Nach ca. 30 min wuIl 
Ätzzeit bleiben die Komplementärfarben der 1. Ordnung praktisch im blau-purpurnen Ver 
Bereich hängen. Das bedeutet gleichzeitig, daß erst nach längerer Ätzdauer stationäre, also exa. 
zeitlich unveränderliche Stromdichte-Potentialkurven zu messen sind. Die Schichtdicken sind Die 
nicht direkt gemessen, sondern nur aus der Interferenzfarbe für die erste Ordnung angenähert von 
berechnet worden. Inte 
F. K. Naumann und G. Langenscheid‘” nutzten die hohe Korrosionsgeschwindigkeit von Met 
Zementit Fe,C, chromhaltigem Zementit und Chromkarbid M, „Cc im Passiv- bzw. Trans- ber: 
passivbereich in 0,1 n NaOH aus, um diese Gefügebestandteile in Stählen untereinander zu ent) 
trennen. Sie stellten zunächst, wie aus Fig. 8 ersichtlich, Stromdichte-Potentialkurven der nic} 
isolierten Karbide für sich allein auf. Man bemerkt bei niedrigen Potentialen einen höheren Chr 
Abtrag von Zementit gegenüber Chromkarbid und umgekehrt eine stärkere Ätzung von Ätz 
Chromkarbid bei hohen Potentialen. Anhand von Gefügebildern konnten sie nachweisen, daß sch: 
tatsächlich bei niedrigen Potentialen der Zementit bunt anläuft, bei hohen Potentialen das sch; 
Chromkarbid. Mit dieser immer wieder angewandten vergleichenden Methodik gelang es wer 
ihnen, auch Eisenkarbide von -nitriden‘* und phosphorarme von phosphorreichen unl« 
Bezirken‘? zu unterscheiden. löst 
Nutzt man die Interferenzfarbenbildung bei nichtleitenden Deckschichten auf Al, Ti, Ta, Zr, um 
Nb, W oder U-Legierungen für die Farbmetallographie aus, so spricht man von Anodisieren Kal 
oder „Anodizing‘“?° im angelsächsischen Sprachgebrauch. Man benötigt hierzu höhere Säu 
Badspannungen bis zu 100 Volt. wer 
Als nichtelektrolytische Parallele zu den Verfahren der Gefügeentwicklung mit Metallabtrag sulf 
und gleichzeitiger Schichtbildung zählt das Anlaßätzen und das Niederschlagätzen mit Ober- und 
flächenreaktion (Tabelle 1). Beim Anlaßätzen wird die Bildung von Anlauffarben infolge 
unterschiedlicher Wachstumsgeschwindigkeit der Schichten auf den jeweiligen Phasen- 
bestandteilen ausgenutzt. Beim Niederschlagätzen, wie z.B. dem von H. Klemm 1950 ein- A £ 
geführten Natriumthiosulfatverfahren? ! geht der, Werkstoff zunächst in Lösung, reagiert mit Vor 
dem Thiosulfation und fällt als Metallsulfid auf der Schliffoberfläche wieder aus, so daß das 
entweder interferierende Schichten entstehen oder diese Schichten sind so dick, daß Eigen- ist 
farben gebildet werden. kur 
Kur 
3.3 Elektrolytisches Abscheiden interferierender Deckschichten _ 
Bei diesem Verfahren werden als Ionen gelöste Bestandteile der Ätzlösung auf der chemisch Sch 
unangreifbaren Probenoberfläche zu schwerlöslichen Verbindungen anodisch oxydiert oder and: 
kathodisch reduziert. Die entstandenen Niederschläge bilden porenfreie, elektronenleitende, dars 
nichtmetallische Deckschichten auf dem Schliff. Im Gegensatz zu den Interferenzaufdampf- Hilf 
schichten entstehen bei diesem Beschichtungsverfahren unterschiedlich dicke interferierende Leg; 
Deckschichten auf den verschiedenen Phasen, so daß stärkere Farbunterschiede zu sele! 
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