GEFUGEUNTERSUCHUNGEN AN Fe- UND Ni-BASISLEGIERUNGEN 
MITTELS DER INTERFERENZSCHICHTEN - METALLOGRAPHIE UND DER 
QUANTITATIVEN BILDANALYSE 
J. Linke, H. Hoven, K. Koizlik, K. Schmidt 
Institut fiir Reaktorwerkstoffe der 
Kernforschungsanlage Jiilich GmbH, Postfach 1913, D-5170 Jülich 
1. Einleitung 
Hochwarmfeste, mischkristall- und ausscheidungsgehdrtete Fe- und Ni-Basis-Legierungen 
werden in gasgekiihlten Hochtemperaturreaktoren auBerhalb des Reaktorcores fir ver- 
schiedene Komponenten eingesetzt. Auch in der Fusionsreaktortechnologie sind sie 
fiir unterschiedliche Aufgaben in der Diskussion bzw. werden in Plasmamaschinen be- 
reits verwendet. Einsatz in verunreinigtem Reaktorhe]ium oder Prozefgas bei hohen 
Temperaturen, lange Standzeiten bis zu 100 000 Stunden, extrem hohe Warmeflisse 
bis zu einigen kW/cm2 und Temperaturwechselbeanspruchung fiihren einerseits zu 
Alterungsprozessen, wie sie in den ZTU-Diagrammen erfaBt werden, andererseits zu 
Korrosionsprozessen. Von letzteren sind primar die Oberflachen-Oxydation, die 
interne Oxydation sowie die Aufkohlung von Interesse. 
Die Priifung der Eignung eines solchen Werkstoffs ist Aufgabe der qualitativen und 
der quantitativen Metallographie. 
2. Interferenzschichten - Metallographie 
Fe- und Ni-Basis-Legierungen sind sowohl im Bereich des kubischen jy -Mischkristalls 
als auch im Bereich der hier interessierenden Ausscheidungen - Oxide, Primdr- und 
Sekundircarbide, intermetallische Phasen - hochreflektierende Werkstoffe. Zwischen 
ihren Phasen besteht nur ein vergleichsweise geringer Kontrast, der fiir die quali- 
tative Metallographie noch bedingt, fiir die quantitative Metallographie mittels 
automatischer Bildanalysatoren dagegen nicht mehr ausreichend ist. Die sich daraus 
ergebenden Probleme werden seit Jahren erfolgreich durch die Anwendung der Inter- 
ferenzschichten-Metallographie gelöst. Deren Einsatz erfolgte bislang im wesent- 
lichen auf empirischer Grundlage. Die visuelle Kontrasterhöhung zwischen den ver- 
schiedenen Gefügeelementen durch eine geeignete Interferenzschicht zeigt Abb. la) 
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