Auswertung fiir die Bildanalyse use 
Grundvoraussetzung für einen guten Kontrast ist somit eine frisch prä- Es v 
parierte Oberfläche; bei bereits im präparierten Zustand gelagerten nen 
Proben sollte die letzte Präparationsstufe (in unserem Falle Diamant- nütz 
politur mit der Körnung 1/4 um) unmittelbar vor der Eingabe in das meta 
Rasterelektronenmikroskop wiederholt werden. Zur Vermeidung von Konta- chen 
minationsschichten im REM muß auf fettfreie Präparation und möglichst Ordn 
ölfreies Vakuum geachtet werden. Auf diese Weise können auch bei hohen Kont 
Vergrößerungen Kontraste zwischen der Aluminiummatrix und Siliziumpha- der 
se erreicht werden, die eine vollautomatische Messung an sehr feinem geti 
Gefüge zulassen. Abb. 10 zeigt einen Ausschnitt aus einem eutektisch eine 
erstarrten Bereich dieser Probe bei 10000-facher REM-Vergrößerung. Auf poli 
der rechten Bildseite ist das Grauwertbild dargestellt, das vom REM Meth 
an ein Bildanalysegerät vom Typ IBAS II der Fa. Kontron übertragen sung 
wurde. Die linke Bildseite zeigt das daraus erhaltene Bindrbild, an sung 
dem die Messung verschiedener bildanalytischer Daten durchgeführt wer- 
den kann. So konnten Siliziumteilchen bis herab zu einer Größe von 
0,2 um durch ‚automatische Bildanalyse erfaßt werden. Lite 
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Abb. 10: Nach Kontrast und Auflösung optimiertes Bild eines eutektisch 
erstarrten Bereiches der Gußlegierung bei 10 000-facher REM- 
Vergrößerung (rechts Grauwertbild, links im Bildanalysegerät 
detektiertes Binärbild). 
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