42 Prakt. Met. Sonderband 41 (2009)
2.2.2 Beschichten mit Platin Bild 4 ze
Präparatior
Für elektronenmikroskopische Untersuchungen müssen die Proben und das Einbettmittel elektrisch erkennen.
leitend sein. Für die Probe wurde aus den oben genannten gründen kaltaushärtendes Einbettmittel Ausscheidı
verwendet, welches ein nichtleitend ist. Daher war anschließend eine leitfähige Beschichtung der
Probe mit Metall notwendig.
Dafür eignen sich Sputteranlagen in denen Argonionen Atome aus dem Targetmaterial
herausschlagen. welche sich dann auf die Probenoberfliche niederschlagen.
In einem Niedervakuumrezipienten wird zwischen als Kathode geschaltetem Target und einem kurz
unterhalb liegenden Anodering eine Gleichspannung angelegt, sodass das eingeleitete Argongas
ionisiert. Diese Ionen werden dann auf das Target hin beschleunigt.
Die Auftrefffliche der Argonione wird durch einen Magneten ringformig lokalisiert und (Neutral)-
Atome des Targetmaterials werden herausgeschlagen. Diese Neutralatome diffundieren durch das
Gas zur Probenoberfliche und schlagen sich dort als leitfähige Metallschicht nieder.
Die Proben wurden bei einer Gleichspannungsentladung von 380V, einem Stromdurchfluss von
17mA. einem Gasdruck von 0.1mbar 12 Sekunden mit Platin beschichtet.
3 elektronenmikroskopische Untersuchung Gum
Die Untersuchungen der Schliffe wurden mit einem Rasterelektronenmikroskop Ultra 55 (Firma Bild 4: SE-
Zeiss) durchgeführt.
3.1. Vergleich vor und nach dem Ionenätzen Im Rückst
Verschmut:
Das Bild 3 zeigt ein Sekundirelektronenbild (SE-Bild) der Probe nach der mechanischen ausgeschie
Präparation im nicht gedtzten Zustand. Die dunklen Stellen rühren typischerweise von vom Hinter
Préparationsriickstéinden her, welche sich in Vertiefungen wie z.B. in Poren oder am Kratzergrund Körner auf
anreichern. Die hell leuchtenden Bereiche sind Erhebungen, hauptsächlich das aufgeworfene führt, zu un
Material an Kratzerrändern und an Eindrücken von Schleifmittelkörnern.
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Bild 3: SE-Bild der Probe vor dem Ionenätzen. Bild 5: RE