Full text: Fortschritte in der Metallographie

Prakt. Met. Sonderband 41 (2009) 79 
3.3 Ionenätzen 
Für die Beseitigung von Bearbeitungsrandschichten und die Gefügeentwicklung an MEMS- 
Strukturen hat sich die flächige Ionenstrahlätzung ausgezeichnet bewährt. Dabei ist zu beachten, 
dass die Schliffproben mit leitfähigem Klebeband soweit abgedeckt werden, dass nur ein minimaler 
Spalt zwischen dem interessierenden Probenbereich und dem Klebeband verbleibt. Somit lassen 
sich Aufladungen des nicht leitenden Einbettmittels weitgehend vermeiden. 
Durch Rotation und Kippung der Proben während der Ätzung wird bei Ätzzeiten von ca. 3 min ein 
großflächiger Abtrag mit entsprechender Gefügeentwicklung erreicht. Vergleichende Versuche zu 
flächigen Ätzungen mit der FIB zeigen ähnliche Ergebnisse, betreffen aber nur relativ kleine Ober- 
flächenbereiche und sind relativ zeitaufwändig. Der Vorteil der FIB-Ätzung ist jedoch die direkte 
Beobachtung des Ätzvorganges bis zur optimalen Gefügeentwicklung. 
inbettmittels. 3.4 Mikroskopieren 
Die Wahl des Mikroskopierverfahrens bei der Schliffanalyse hängt entscheidend von der Fragestel- 
en Nassschleif- lung und der damit erforderlichen Auflösung ab. Weder im Laser-Scanning-Mikroskop noch im 
nl mit den Kor- Rasterelektronenmikroskop gelingt es Strukturen mit hohem Aspektverhiltnis zerstérungsfrei zu 
rische Vermes- charakterisieren. Wéhrend zur Charakterisierung der metallischen Funktionsschichten, z. B. auf 
gen oder Gefü- Spiegelplatten; die Differentielle Phasenkontrastmikroskopie (DIC) noch gute Resultate liefert, sind 
ießende Politur für die Charakterisierung der Nanoschichten hochauflösende REM- oder AFM-Untersuchungen 
°r Rotationspo- erforderlich. 
),5 um sind im 
n Fall kommen 
ts). 4 _FIB-Präparation 
Die FIB-Technik ist inzwischen ein in der Metallographie fest etabliertes Verfahren. Damit lassen 
sich effektiv oberflächennahe Bereiche bis in eine Tiefe von ca. 10 um untersuchen. Größere 
Schnitttiefen oder sehr breite Schnittfugen erfordern einen hohen Zeit- und Kostenaufwand. Die im 
Bild 7 abgebildeten kapazitiven Finger eines Drehratensensors wurden in 6 Stunden mittels FIB- 
Technik bis in eine Tiefe von ca. 50 um abgeätzt. Bild 8 zeigt die durch den FIB-Schnitt freigeleg- 
ten funktionellen Schichten an den kapazitiven Fingern. 
ng am Boden zur Lo see Hl u eo. Fit Prob. Mag = 20.57 KX Detector = inLens el FiB Probe = 10 pA “hofer IZM 
uflésbaren N ew THT=1000 — FB Blanked = | we- 5mm FHT = 5.00 kM IB Blankad = Yas 
Bild 7: FIB-Schnitt durch kapazitive Finger eines Drehra- Bild 8: Struktur und Dicke funktioneller Beschichtungen 
tensensors. der kapazitiven Finger
	        
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