Full text: Fortschritte in der Metallographie

Prakt. Met. Sonderband 38 (2006) 399 
EE Bm 
Bild 10 und 11: Langzeitig beanspruchte Zeitstandprobe (650°C, 20004 h, nicht gebro- 
chen) eines 10% Cr-Stahles (X10CrMoVNb9-1), 
Konventionelle mechanische Préparation 
g mit Del- 
Bild 12 und 13: Langzeitig beanspruchte Zeitstandprobe (650°C, 20004 h, nicht gebro- 
chen) eines 10% Cr-Stahles (X10CrMoVNb9-1), 
Konventionelle mechanische Préparation, vibrationspoliert, 
echporen- ionenstrahlgeatzt (20°, 5kV, 2,5mA, 10 min) 
Praparati- 
bei denen 
‚eich einer 3.3 ANWENDUNG FÜR DIE INTERFERENZSCHICHTENMETALLOGRAPHIE 
raion. In allen Arbeiten, die bisher zum Thema Interferenzschichtenmetallographie erschienen 
na om 0- sind, wurde besonders darauf hingewiesen, dass die Schliffvorbereitung einen entschei- 
i io om denden Einfluss auf das Gelingen der Versuche hat [4]. Eine möglichst saubere und un- 
deine ST verfälschte Probenoberfläche muss gefordert werden, weil das Licht infolge der starken 
lini ih Absorption bei metallischen und zum Teil auch bei nichtmetallischen Werkstoffen nur sehr 
2 wenig in die zu untersuchende Probe eindringen kann. Die Wechselwirkung des Lichtes 
mit dem zu untersuchenden Objekt und der aufgebrachten Schicht spielt sich deshalb nur 
in sehr dinnen Oberflachenbereichen ab. Diese Bereiche, die nur Bruchteile einer Licht- 
wellenlénge in das Kristallinnere hineinreichen, sind äußeren Einwirkungen (z.B. Verfor- 
mungsschichten) weitgehend ungeschiitzt ausgesetzt und werden durch sie stark beein-
	        
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