Prakt. Met. Sonderband 46 (2014) 237 
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z.B. für Tiefe in nm 
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J. Je nach Abbildung 4: Exemplarisches Konzentrationsprofil von Nickel, Titan 
t, bzw. ein und Sauerstoff an der Oberfliche eines Ni-Ti-Blechs nach Wirme- 
behandlung (Rohdaten geglättet). 
senes und 
nung der In der Literatur sind Daten zu Tiefenprofilen ermittelt durch Rutherford-Ruckstreuung [6] 
Smissions- und Rontgenphotoelektronenspektroskopie [7, 8] an analog vorbehandelten Ni-Ti-Blechen 
cher NisTi verfügbar. Die Tiefenprofile sind unabhängig vom gewählten Verfahren ähnlich. Vorteile 
ch aus der der Glimmentladungsspektroskopie sind die vergleichsweise geringsten Kosten und 
he Grenze Messzeiten bei gleichzeitig hoher Messempfindlichkeit. Bei Rutherford-Rückstreuung ist 
Photoelek- hingegen die zerstörungsfreie Tiefenprofilierung der Proben möglich, und die Bestimmung 
Sauerstoff der Tiefeninformation erfolgt über die atomare Dichte des untersuchten Materials ohne 
auflösung weitere zur Kalibrierung der Abtragsrate notwendigen Schritte. Nachteilig sind aber die 
J kann im vergleichsweise höchsten Gerätekosten (lonenbeschleuniger) bei einer Tiefenauflösung 
ehmenden von -10 nm (Materialabhängig). Die Röntgenphotoelektronenspektroskopie bietet zusätz- 
nimmt die lich zur hohen Genauigkeit bei der Bestimmung der chemischen Zusammensetzung auch 
chennahen die Möglichkeit Bindungszustände zu analysieren, ist aber aus Sicht der Gerétekosten der 
nnen. Die Glimmentladungsspektroskopie deutlich unterlegen. Zudem ist fur die Bestimmung von 
Konzentrationsprofilen ein stufenweiser Abtrag der Materialoberfliche durch Sputtern 
notwendig, was die Tiefenauflösung der Messung im Vergleich zur Glimmentladungs- 
spektroskopie begrenzt, die Messdauer und Kosten weiter erhöht und auch Auswirkungen 
auf die Analysierten Bindungszustinde haben kann. 
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