Prakt. Met. Sonderband 47 (2015) 167 
REM) wage tn op 
i Außerdem y a )b Em N 
WLCKen 
i 100nm 
HE 
ungen FIB- . . . | a re et Pheri To . 
beschichteten Bild 1: TEM-Bilder einer FIB-Lamelle aus geglühtem NiTi nach Beschichtung mit i-Platin; Übersichtsbild (a), 
Als wurde auf Detailbild (b); Fouriertransformierte der markierten Bereiche in (b) zeigen amorphes (c) bzw. kristallines (d) Oxid 
kre unterhalb der Platinschicht. 
im mehrere . : is ri . . im 
sili = Im Vergleich zur Beschichtung mit i-Platin ist nach Abscheidung von e’-Platin die Grenzfliche von 
wie : i" der Beschichtung zum Oxid klarer zu erkennen (Bild 2a). Der Ubergangsbereich von e’-Platin und 
; Oxid beträgt 10 nm (Bild 2b). In Hochauflösung bzw. nach Fouriertransformation ist zu erkennen, 
dass das Material im Bereich der Grenzfläche Platin / Oxidschicht kristallin ist (Bild 2c und 2d). 
Folglich tritt, anders als bei Verwendung des Ionenstrahls, in diesem Fall bei der Abscheidung des 
Platins keine ausgeprägte Amorphisierung an der Oberfläche der Oxidschicht auf (Bilder 2b bis 2d). 
Eine Charakterisierung der Struktur, aber nicht der Topographie der Oxidoberfläche scheint nach 
Beschichtung mit e-Platin möglich. 
wentionell im ml oe 
'aliibtem NiTi a) Be ~~} 
erungen 
entopoeraphie 
ct des Oxids 
Jxidschicht is 
> Bestimmung 
th von i-Platin 
IL .amit 27% 
sformierten ist 
ich bis in eine 100nrm ; 
Oxidschicht In 
- i-Platin ein Bild 2: TEM-Bilder einer FIB-Lamelle aus geglithtem NiTi nach Beschichtung mit e™-Platin; Ubersichtsbild (a), 
unmöglich. Da Detailbild (b); Fouriertransformierte der markierten Bereiche in (b) zeigen kristallines Material im Bereich der 
ar höchste der Grenzfläche Platin / Oxid (c) und (d). 
 erwarten. SI¢