Prakt. Met. Sonderband 50 (2016) 87
70% Mit zunehmender Polierdauer bei
65% Vos 85% Re dem 3 ym und 1 pgm Schritt kommt
Methode i es zu einer Verschlechterung des
£ BR” ssthode 4 erreichten Volumenanteils in der
beschichtung der Kathodenaktivmasse (siehe Bild 5).
en zu deutlichen bo 550p ene ew. Ab ca. 35 min bei 1 pm ist ein
bnis. Mit einem, geringer Anstieg des Aktivmassen-
n gemittelten, © 50% 4-—-i- volumenanteils in der Kathode
inteil von 62 % lo erkennbar. Dieser Anstieg wird mit
artikelausbriichen | 45% | Z x stark zunehmenden Graphit-
nahe an der ausbriichen in der Anoden-
Volumenanteils 0 es beschichtung relativiert (siehe Bild
lethode 4 wurde _ 4). Die von C. Hafner in [3]
hoden 1-3 mit LS a verwendete Methode für die
°k und verkürzter 30% In N Rundzellenpräparation konnte nur
ariert. Für die | 20 min 40 min | Smin 36min 55 min bedingt auf die großflächige
liegt der Polierschritt 3 um Polierschritt 1 um dy von pita
inteil bei 48 %. N übertragen werden. ine
liegen mit einem Praparationszsit ii] gleichldufige Rotationsbewegung
nteil von jeweils Bild 5: Erreichter Aktivmassenvolumenanteil in Abhängigkeit von dem führt bei der Präparation von
und sehr vielen Polierschritt und der Präparationsdauer anhand von Methode 1 und 4. PHEV2-Zellen zu sehr starken
‚utlich unter dem Ausbrüchen der Partikel und einem gerichteten Materialabtrag. Der Abtrag setzt sich mit
e 4. Der negative zunehmender Präparationszeit auf der Probenoberfläche fest und verhindert die folgende
äparation ohne Gefügecharakterisierung. Die große Probenoberfläche der PHEV2-Zellen setzt für ganzflächig gute
n Vergleich von Priparationsergebnisse eine absolut plane Schlifffliche nach dem Schleifen voraus. Zudem ist
er Methode 2 durch die sehr lose eingebundenen Aktivpartikel eine Nachinfiltration vor dem Feinschleifen
sinschleifen mit unumgänglich.
rnigeren SiC-
3 3 führte trotz 4.3 Kategorisierung herstellungsbedingter Defekte im Zellaufbau von LiB
zu einem
nis. Die beim Abscannen der PHEV2-Zellen typischen und am häufigsten vorkommenden Ungänzen
fügeausbringende sind in Bild 6 beispielhaft dargestellt. Es handelt sich um Ungleichverteilungen der Volumina /
ngt nahezu keine Partikelgröße von Speichermaterialien in den Elektrodenaktivmassen, Schichtdickenschwankungen
‘erbesserung von der Elektrodenableiter und Fremdpartikel im Zellaufbau
ir
du pur
Polierschritten nach Bild 6: Qualitätsrelevante Gefügeparameter im feingeometrischen Zellaufbau. Lichtmikroskopische Aufnahmen einer
Partikelgrößeninhomogenität der Speichermaterialien (6-a); Schichtdickenschwankungen der Elektrodenableiter (6-b):
Fremdpartikel im Zellaufbau (6-c)
