Full text: Fortschritte in der Metallographie

Prakt. Met. Sonderband 52 (2018) 199 
* nm on a Linienprofil 1 
TE 20 
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Entfernung [um] 
Linienprofil 2 
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“200 2 . Ww", A 2 N 30 
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-300 so SE N 
-35.0 an . 1.50 
moe Entfernung [um] 
Abbildung 3: C-AFM Messung an der Probe mit globularen Phasen: a) Topographie, b) 
vOQTADNIE resultierende Stromkarte, c) und d) Profile für die in a) und b) eingezeichneten Linien. 
2 Text) 
a) 20 Spannungs-Sequenz b) _ Lore alpha-Phase 
3pannung yop = © X „ES Lo 
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und d) sind 2 Te ww 70 0 ” Toa -02 08 oz 04 
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Statistik. und Spannung [V] Spannung [V] 
nungsrampe or 
wo met il Abbildung 4: Ergebnisse der lokalen Strom-Spannungs-Kurven: a) Zeitlicher Verlauf der 
n Konb angelegten Spannungssequenzen, b-d) resultierende Strom-Spannungskurven für die drei 
N intermetallischen Phasen (für Details siehe Text). 
sführt wurden 
Gren bereits 
eren werden 
ose 3. ZUSAMMENFASSUNG 
werden. All . | 
ung kam i Durch Kombination von AFM, KPFM und C-AFM Messungen konnten Unterschiede in den 
ef stud elektrischen Eigenschaften intermetallischer Phasen einer y-TiAl-Basislegierung mit der 
yon Zusammensetzung Ti-43,5Al-4Nb-1Mo-0,1B nachgewiesen werden. Dieser Sachverhalt
	        
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