Full text: Fortschritte in der Metallographie

Prakt. Met. Sonderband 52 (2018) 5 
t A. 
Ku On Mo-Legierungen enorm gesteigert werden. Nanometergroßes HfC sorgt in der Mo-Hf-C 
yg Legierung MHC für extreme Warm- und Kriechfestigkeit. Anwendung findet MHC 
Mobi Sof beispielsweise im Bereich der Röntgenstrahlungserzeugung. Als Strukturmaterial von 
rn Röntgendrehanoden muss das Material die Deformation des Bauteils durch extreme, 
jen emi] thermisch induzierte Spannungen bei Temperaturen von bis zu 1500 °C verhindern [11]. 
Keionges | Im Folgenden wird am Beispiel des hochschmelzenden Metalls Mo auf die Möglichkeit 
0 Ohnik einer gezielten Präparation und chemische Analyse von Korngrenzen, den 
2 opt Co korrespondierenden mechanischen Eigenschaften und thermisch aktivierten Prozessen 
tp verschiedener Geflgezustande, wie umform- bzw. walzhart (wh) und rekristallisiert (rk), 
de n und eingegangen. Abschließend wird eine gezielte Anpassung der Mikrostruktur und der 
| re mechanischen Eigenschaften durch thermo-mechanische Umformprozesse von MHC 
\ mi en aufgezeigt. Somit kann die Wichtigkeit des Zusammenspieles zwischen Mikrostruktur und 
ort mechanischen Eigenschaften anwendungsnah demonstriert werden. 
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Menspiel von 
Wiki 2. SKALENUBERGREIFENDE CHARAKTERISIERUNG VON 
tor REFRAKTAREN HOCHLEISTUNGSWERKSTOFFEN 
CHE 2.1 Gezielte Korngrenzenpräparation und Einfluss der Segregation in technisch 
aufgebracht reinem Mo 
oo Um die chemischen Elemente ausreichend genau aufzulösen, ist die APT die Methode 
dt [6 > der Wahl, da sie erlaubt, selbst extrem geringe Gehalte an Verunreinigungen zu 
a bestimmen. Katharina Babinsky entwickelte am Department Metallkunde und 
baraker in Werkstoffpriifung in ihrer Dissertation eine Methode zur gezielten APT-Präparation von 
© duch or Korngrenzen [12] (Bild 1). Möglich macht dies die Verwendung von sogenannter 
q Transmission Kikuchi Diffraktion (TKD) anstelle der ansonsten üblichen TEM- 
Muss auf die Untersuchung [13,14]. Notwendig hierfür ist ein Zweistrahlgerät, das eine lonensäule und 
hat Intrinsisch eine Elektronensäule besitzt, sowie ein konventionelles Elektronenriickstreu- 
uk-Löslchkeit beugungssystem (EBSD). Die APT-Nadel ist an ihrer Spitze elektronentransparent und 
Omgrenzen an kann daher durchstrahlt werden. An der Unterseite treten neben dem Primärstrahl auch 
and versagen vorwärts gebeugte Elektronen aus. Diese erzeugen an der EBSD-Kamera das typische 
lateral verhält Kikuchi-Muster, welches in weiterer Folge ausgewertet werden kann [15]. Neben der 
mgrenzfläche kristallographischen Information erhält man durch die räumliche Auflösung von bis zu 
xier C können 10 nm auch die genaue Position der Korngrenze. Die Vorbereitungszeit einer derartigen 
z-Design“ zur Grenzflächen-Probe kann durch diese Methode drastisch reduziert werden, da die 
ationen erlaubt lonenbearbeitung und TKD-Analyse im selben Gerät durchgeführt werden können. Da 
auch von der lediglich ein Probenhalter für die gesamte Vorbereitung der Probe verwendet wird, 
A re verringert sich auch das Beschädigungsrisiko während der Handhabung. 
aften, die bei 
nen zwischen 
nen durch die 
ner beleuchtet 
wird durch die 
ar über 900 °C 
~fagtigkelt von
	        
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