Aufgedampfte Interferenzschichten als Hilfsmittel zur Identifizierung 
von Einschlüssen 
FRANZ ALFRED SILBER, HARALD JUDTMANN 
(Abteilung Forschung und Qualität der Vereinigten Österreichischen Eisen- und Stahlwerke 
Aktiengesellschaft, Linz) 
1. Einleitung 
Aufgedampfte Interferenzschichten werden in der Metallographie zur ätzmittellosen Gefüge- 
im Eisen- entwicklung verwendet. Die Aufdampfschicht verstärkt die Unterschiede im Reflexions- 
Xionsver- vermögen verschieden orientierter Kristallite und erhöht auf diese Weise den Kontrast 
zwischen den einzelnen Gefügebestandteilen. Die damit zusammenhängenden Probleme 
wurden von Pepperhoff‘ °is 3, Bühler*>5 und Mitarbeitern bereits ausführlich behandelt. In 
der vorliegenden Arbeit soll nun die Anwendbarkeit von Interferenzschichten bei der 
Bestimmung nichtmetallischer Einschlüsse untersucht werden. 
2. Optische Grundlagen dünner Schichten 
Beim Auftreffen einer ebenen Welle auf eine bedampfte Fläche wird ein Teil der Welle (I) an 
der Schichtoberseite reflektiert, ein anderer Teil (II) gebrochen und an der Trägeroberfläche 
mehrfach reflektiert. Diese beiden Wellenteile kommen zur Interferenz. Für das Reflexions- 
vermögen einer Phase mit einer aufgedampften Schicht der Dicke d, ergibt sich dadurch eine 
Wellenlängenabhängigkeit, die sich nach der Theorie der dünnen Schichten® unter Berück- 
sichtigung der Mehrfachreflexion gemäß Gleichung 1 errechnet (senkrechter Lichteinfall und 
eine nichtabsorbierende Schicht vorausgesetzt): 
(1) Al la+lbla2lal-lblcos CcA+P+TT) 
atla Plbl421a 1-1 61co sCcMA+P-T) 
Dabei sind 
Pa &- n) 2 (ne)? 
(1) Jal= > Ta und |bo]= Ta 
S (n+ng)“+(n 2) 
die Amplitudenänderungen bei der Reflexion an der Schicht und am Träger, 
w und — mt die entsprechenden Phasensprünge 
n, der Schichtbrechungsquotient, 
n der Brechungsquotient und 
nk der Absorptionskoeffizient des Trägermaterials 
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