10 ‚um gu 
Abb. 1b: HASTELLOY X (Behandlung siehe Abb. la) Gasionendtzung mit Eisenkathode, 
ohlender Schichtdicke = 35 nm. 
absorbierende Schicht absorptionsfreie Schicht 
"a AO 01% 30% 
0% 
erend) 
z % 
1% 
i 0% 
2 07% 
yonm | 
| % 
_ 0% 
1g im ; el ; 3 
ung 0 9 —Dp Zn 
v. ZnS. 
Abb. 3a: Abb. 3b: 
Reduktion des Reflexionsvermögens durch Aufbringen interferierender Schichten 
Oter Ordnung (links: FeO-Schicht bei A = 500 nm, rechts: ZnS-Schicht) im 
Interferenzminimum in Abhängigkeit von den optischen Konstanten des Grund- 
materials Ue kp) Schraffierte Bereiche = Fe- und Ni-Basislegierungen. 
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