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Fotometer YW MC: L 
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Fotographie Yi pO M,C: 
bzw. due | Auswertung Crys,0 Nis 2 M0; o Fey g Sip : 
Beobachtun . (Ti,W,Co)o.2Ce 
Abb. 4: Abb. 5: 
Geeignete Systeme zur quantitativen EDX-Analyse am Werkstoff HASTELLOY X 
Gefügeanalyse in Abhängigkeit von der 
Helligkeit der Probe. 
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' HASTELLOY X 
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Abb. 6: 
Quantitative Untersuchung des Werkstoffs HASTELLOY X mit Hilfe eines automatischen 
Gefügeanalysators. Volumenanteil der einzelnen Carbidtypen in Abhängigkeit vom 
Abstand zur Probenoberfläche. 
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