Prakt. Met. Sonderband 41 (2009) A441 
2.2 Die physikalische Präparation 
nisch präpariert. 2.2.1 Das Ionenätzen 
Zum beseitigen der verformten und verschmierten Schliffoberfläche nach der mechanischen 
Probenpräparation wurde das Ionenätzen angewandt. 
Bei diesem Verfahren trifft ein Argonionenstral unter einem flachen Winkel (10°-20°) auf die um 
vichtung | Zeit [min] ihre Längsachse rotierende Probe. | | ) 
— Die beschleunigten Argonionen schlagen die Atome des Probenmaterials heraus und tragen somit 
tichlauf Bis plan die Oberfläche ab (Bild 1). Die Proben wurden bei 4 kV Beschleunigungsspannung mit einem 
’ Strahlstrom von 220uA mit der langsamsten möglichen Rotation unter einem Winkel von 15° für 
ichlauf 5 30 Minuten gedtzt. Im beschriebenen Fall kam eine Ionenitzanlage Typ Met-Etch Model 683 
— (Firma Gatan) zum Einsatz. 
genlauf 3 
zenlauf 1/2 
zenlauf 4 Ionenquelle 
enlauf | Wa = 
ay 
- Vakuumkammer 
Ar - 
J 
I 
/ A 
p . / 7 
roone 
0°-90° 
Bild 1: Prinzip « der Ionenätzanlage 
360°