tmasse), Parallel dazu wurden die Proben mit einer modifizierten Methode in Zusammenarbeit mit der Firma Struers 
in Anlehnung an den Metalog Guide [8] pripariert. Die dabei durchgeführten Arbeitsstufen sind in Tabelle 
nmensetzung II zusammengefaßt: 
remenge, da die 
Stufen Lo 2 3 
Unterlage SiC-Papier _ DP-Pan _P-Chem 
%) + 500ml Schleifmittel SiC ' DP-Susp. |OP-S * 
Kornung/Korngrofe 220 15um | <1/4pm 
Tous Schmiermittel ‘Blau ‘Blau 
fläche Drehzahl [U/min] __ 300 "150 1150 
Druck [N] 125 40 10 
Zeit I bis plan [7min | 4-5min 
Gerit: Rotopol-2/Pedemat Probenhalter: PEDYF ** 
eingebettet. Die Toes = 96ml OP-S+ 2ml Ha02+ 2ml NH,OH 
. PEDYF = Probenhalter für Einzelbelastung, daher reduzierte Druckaufbringung 
3akelit, auf der 
et. Damit ergibt , en 
e Proben beim Tabelle II: Arbeitsstufen des modifizierten Verfahrens (nach [8]) 
3 Variante sollte 
‚nlaufflecken" an Das wesentliche Merkmal dieser modifizierten Methode liegt in der Verwendung von konzentrierter OP-S 
zusammen mit Wasserstoffperoxid HyO, und Ammoniak NH4OH beim letzten Polierschritt. Das genaue 
Verhältnis der Zusammensetzung beträgt 96 ml OP-S mit 2ml H,O, und 2m! NH,OH. 
3.2. Elektrolytisches Polieren 
m Versuchspro- 
aration nach den Die Proben wurden wie in Tabelle I beschrieben vorgeschliffen. Dieses Programm wird mit der Polierstufe 
von lpm abgeschlossen. Anschließend erfolgte das elektrolytische Polieren. Die dabei verwendeten 
Elektrolyte wurden bereits in Kapitel 2.2. beschrieben. Als Katode diente ein korrosionsbeständiges 
Metallblech. Die Probe wurde mit einer Maske versehen und an den positiven Pol der Stromquelle 
angeschlossen (Anode). Während des Polierens strömte die Flüssigkeit mit einer bestimmten Fließge- 
ei schwindigkeit an der Probenoberfliche vorbei. Wie im Versuchsprogramm definiert, wurden dabei die 
olykristallin | Elektrolytkonzentration, die Spannung, die Polierdauer und die Art der Kontaktierung der Probe variiert. 
nach 8) | 4. Ergebnisse und Diskussion 
os Die Beurteilung der Schliffqualitit erfolgte im Lichtmikroskop unter polarisiertem Licht und im Raster- 
Da elektronenmikroskop. Beurteilungskriterien waren dabei das Auftreten von Mikrorissen in der y-TiAI- 
ol 2 (Stufe 5) Phase, die Bildung von Oberflächenfehlern wie Ätzgrübchen und Anlaufflecken, insbesondere an Spitzen 
und Kanten, die Reliefbildung und die Qualität des Kontrastes im polarisierten Licht mit bis zu 500-facher 
Vergrößerung. Zudem wurde die Güte des Phasenkontrastes im REM im BSE-Modus als Qualitätsmerk- 
Prakt. Met. Sonderbd. 26 (1995) 599