ww 
§ Abb. 5: Anschliff der HVOF-Schicht mit typischen Fehlern (REM) 
: 
I 
& 
fi 
aad Tt 2206 TT 
\bb. 5), der von ii a aa tl 4 
erung mit einer Abb. 6: Plasmaspritzschicht (REM): Oberfläche und Anschliff 
rgie und der be- Beim modifizierten HVOF-Verfahren hat sich eine besonders dichte Schicht mit geringer Rauhigkeit 
Brenner aufge- ausgebildet (Abb.7). Dies zeigt sich auch im Anschliff, Die Schicht ist nahezu porenfrei. Rundliche, nicht 
‚n aufschmelzen aufgeschmolzene Teilchen wurden nicht gefunden. Die Morphologie dieser Schicht entspricht jener, die 
man beim Spritzen mit umhüllungsfreien Pulvern erhält. 
emperatur, aber 
ı der Oberfläche 
ennoch nur ein 4. Zusammenfassung 
liesen Schichten 
te kugelförmige Diese Untersuchungen zeigten, daß ein Pulver, das Fehler in Form von Ein- und Mehrfachumhüllungen 
n, infolge ihrer hat, bei einer günstigen Wahl von Spritzverfahren und -parametern noch hinreichend gut verarbeitet 
werden kann. Dabei muß die Summe aus thermischer und kinetischer Energie hoch genug sein, damit die 
Umhüllungen und die eigentlichen Partikel vollständig aufschmelzen und aufplatzen können. 
Prakt. Met. Sonderbd. 26 (1995) 631