Full text: Fortschritte in der Metallographie

dem für TiC typischen Wert überein. Die Schichten R1 und R2 sind vergleichsweise grobkristallin, 
defektarm und haben jeweils eine Dicke bis 1 um. Die Schicht R2 wird als Mischkarbidphase MxC 
mit M = Sis TisFez;Co‚Nis interpretiert. Als Indiz für den C-Anteil wurde die relativ hohe Intensität 
der Kohlenstoff-Ka-Strahlung im EDXS-Spektrum angesehen. Die Auswertung verschiedener 
Einkristallbeugungsmustern führte zur Strukturbestimmung: kfz-Gitter mit a = 1,13 nm. Bild 3 
enthält das Beugungsmuster und die zugehörige hochauflösende TEM-Aufnahme eines (110)- 
orientierten Bereiches. Zur Interpretation der Abbildung ist die Lage von senkrecht zur Bildebene 
stehenden Netzebenen und Atomgruppenreihen eingezeichnet. Reihen von Einzelatomen sind nicht 
aufgelöst. 
Bild 3: Hochauflösende TEM-Aufnahme und zugehöriges Elektronenbeugungsmuster der kubisch 
flächenzentrierten Mischoxid-Phase in der Reaktionsschicht R2 mit (110)-Gitterorientierung, Ab- 
stände der markierten Netzebenen: 0,65nm / 0,57nm / 0,40nm / 0.22nm 
Die lotseitige Reaktionsschicht R1 enthält kein Kohlenstoff. Mit der stöchiometrischen Zusammen- 
setzung Si,TisFesCo‚Ni, wird sie als intermetallische Phase interpretiert. Die Gitterstruktur konnte 
nicht eindeutig bestimmt werden. Die keramikseitige Reaktionsschicht R4 fällt durch ihre Inhomo- 
genität und dem Fehlen eines Titan-Anteils auf. Sie ist mehrphasig aufgebaut (Bild 4). Mindestens 
zwei Reaktionsphasen, welche Si, Fe, Co und Ni jeweils in unterschiedlicher Konzentration 
enthalten und in der TEM-Aufnahme dunkel erscheinen, sind in einer graphitischen Phase (hell) 
eingebettet. Die hochauflösende TEM-Aufnahme in Bild 4 zeigt (002)-Graphitbasisebenen mit dem 
Abstand von ca. 0,35 nm und die lamellare Form der graphitischen Phase. Die in zugehörigen 
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