Full text: Fortschritte in der Metallographie

370  Prakt. Met. Sonderband 30 (1999) 
40.0 = — 
x 30.0 
3 20.0 
z 10.0 | —— Martenitumwandlung 
— —- Austensitumwandlung 
0 0 -140.0 to mm a — 
"600.0 620.0 640.0 660.0 681) 600.0 650.0 700.0 750.0 800.0 
Betatisierungstemperatur [°C] Betatisierungstemperatur [°C] 
Bild 2: Links: Anteil des nicht ing Austenit gelösten x - Messings in Abhängigkeit von der 
Betatisierungstemperatur. Rechts: Nach Betatisieren durch DSC - Messungen gefundene Um- 
wandlungstemperaturen am Beispiel der DSC - Peak Maxima für die Austenit (Am) und die 
Martensit (M,,) Umwandlung. 
verhindert werden. Wird die Temperatur zur Durchführung einer AF auf 780°C' abgesenkt, so 
FÜR 
Bild 3: (a) LM - Aufnahme nach Austenitverformung (Walzen bei 800°C' und darauffolgen- 
de Wasserabschreckung). Verformungsgrad: ¢ = 1,46 logarithmische plastische Verformung. 
Gestreckte und gefaltete Korngrenzen als Konsequenz der thermomechanischen Behandlung 
(TMB). (b) TEM - Aufnahme nach gleicher TMB mit ¢ = 1,66. Wahrend der Behandlung 
keine Rekristallisation (Versetzungsnetzwerk durch Abschrecken konserviert). 
kommt es laut Bild 4 (a) zu einer Bildung von Subkorngrenzen. Sowohl an diesen als auch an 
den GroBwinkelkorngrenzen bilden sich grobe or Ausscheidungen. Die TEM Aufnahme (Bild 
4 (b)) belegt, daß zusätzlich fein verteilte @ - Ausscheidungen und Versetzungen durch die 
Vorbehandlung gebildet werden. Die Auswirkungen der Austenitverformung sowohl bei 800°C 
als auch bei 780°C’ auf die Umwandlungstemperaturen sind in Bild § (links) aufgetragen. Mit 
zunehmendem logarithmischen Umformgrad kommt es in beiden Fällen zu einem deutlichen 
Abfall von A,, und M,,. Dieser ist jedoch nach AF bei 780°C' deutlicher ausgeprägt als nach 
800°C. Grund hierfiir ist der, daß in beiden Fällen durch Einbringen von Defekten in den Auste- 
nit dessen Scherprozeß in den Martensit erschwert wird. Die Folge ist eine stärkere notwendige 
Unterkiihlung, d. h. Abnahme der Umwandlungstemperaturen. Zusätzlich kommt, es in Folge 
der Bildung von &x nach AF bei geringerer Temperatur zu einem chemisch bedingten Abfall von
	        
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