Prakt. Met. Sonderband 46 (2014) 237
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z.B. für Tiefe in nm
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J. Je nach Abbildung 4: Exemplarisches Konzentrationsprofil von Nickel, Titan
t, bzw. ein und Sauerstoff an der Oberfliche eines Ni-Ti-Blechs nach Wirme-
behandlung (Rohdaten geglättet).
senes und
nung der In der Literatur sind Daten zu Tiefenprofilen ermittelt durch Rutherford-Ruckstreuung [6]
Smissions- und Rontgenphotoelektronenspektroskopie [7, 8] an analog vorbehandelten Ni-Ti-Blechen
cher NisTi verfügbar. Die Tiefenprofile sind unabhängig vom gewählten Verfahren ähnlich. Vorteile
ch aus der der Glimmentladungsspektroskopie sind die vergleichsweise geringsten Kosten und
he Grenze Messzeiten bei gleichzeitig hoher Messempfindlichkeit. Bei Rutherford-Rückstreuung ist
Photoelek- hingegen die zerstörungsfreie Tiefenprofilierung der Proben möglich, und die Bestimmung
Sauerstoff der Tiefeninformation erfolgt über die atomare Dichte des untersuchten Materials ohne
auflösung weitere zur Kalibrierung der Abtragsrate notwendigen Schritte. Nachteilig sind aber die
J kann im vergleichsweise höchsten Gerätekosten (lonenbeschleuniger) bei einer Tiefenauflösung
ehmenden von -10 nm (Materialabhängig). Die Röntgenphotoelektronenspektroskopie bietet zusätz-
nimmt die lich zur hohen Genauigkeit bei der Bestimmung der chemischen Zusammensetzung auch
chennahen die Möglichkeit Bindungszustände zu analysieren, ist aber aus Sicht der Gerétekosten der
nnen. Die Glimmentladungsspektroskopie deutlich unterlegen. Zudem ist fur die Bestimmung von
Konzentrationsprofilen ein stufenweiser Abtrag der Materialoberfliche durch Sputtern
notwendig, was die Tiefenauflösung der Messung im Vergleich zur Glimmentladungs-
spektroskopie begrenzt, die Messdauer und Kosten weiter erhöht und auch Auswirkungen
auf die Analysierten Bindungszustinde haben kann.
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