Prakt. Met. Sonderband 47 (2015) 155
3 Ergebnisse
en \ Für die Analyse der Eignung der mittels Ionenstrahl bearbeiteten Probenoberflächen für die elektro-
eo nenmikroskopische Abbildung von Poren und das anschließende Vermessen dieser Defekte wurde
Ve zunächst der Materialabtrag untersucht. Abbildung 1 zeigt die erzeugten Höhenprofile von Proben,
die bei unterschiedlichen Einfallswinkeln des Ionenstrahls bearbeitet wurden.
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‚hr behindert. Bild 1: Höhenprofile von Probenoberflächen nach einem Ionenabtrag gemessen an Proben aus DP600
; oben: Ionenitzbearbeitung unter Einfallswinkel von 90°
as parle ; Mitte: Ionenpolierbearbeitung unter Einfallswinkel von 1°
ting) niet unten: Boschungsschnitt (fon Beam Slope Cutting) unter Einfallswinkel von 30°
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ın Wolfram Der Profilschnitt der Probe mit senkrechtem Einfall des Ionenstrahls (Bild 1 oben) zeigt einen diffu-
1 defimere? sen Abtrag mit flachwinklig auslaufender Kontur. Hier konnte bei einer Spannung von 3 kV und einer
op der Firma Bearbeitungsdauer von 1,5 Stunden ein Materialabtrag von ca. 2 pm erzeugt werden.
enmikroskop Beim Ionenpolieren unter flachem Einfallswinkel (Bild 1 Mitte) wird kaum Material abgetragen. Der
maximale Abtrag beträgt weniger als 1 um bei sonst gleicher Beschleunigungsspannung und Bear-
beitungszeit.
In Abbildung 1 unten ist das Profil eines Ionen-Böschungsschnitts unter einem Einfallswinkel von
30° dargestellt. Es konnte bei gleicher Spannung und Bearbeitungszeit ein Abtrag von ca. 5 um Tiefe
erzeugt werden. Dieser Abtrag wird direkt entlang einer glatten Böschungsebene erreicht.
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