Prakt. Met. Sonderband 47 (2015) 157 
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om zy a Die erzeugten Reliefstrukturen sollen im Folgenden dargestellt und erläutert werden. Das Verfahren 
battragey der Ionenbearbeitung ist aufgrund des Einfalls eines lonenstrahls prinzipiell dazu in der Lage, eine 
die Analise Struktur auf der Probenoberfläche zu erzeugen, die durch den einfallenden Ionenstrahl selbst be- 
deren Größe stimmt wird. Hier soll gezeigt werden, dass bei niedrigen Energien des Ionenstrahls die Selektivität 
des Ionenabtrags gegenüber diesen Effekten überwiegt und sich vornehmlich ein Relief ausbildet, das 
hl. Aphil. Auffälligkeiten der Mikrostruktur folgt. Dazu werden Aufnahmen aus der Lichtmikroskopie ohne 
HE Jonenbearbeitung mit Aufnahmen von ionenbearbeiteten Proben im REM verglichen. 
eben Die Abbildung 3 zeigt zwei verschiedene Proben des Dualphasenstahls DP600 nach einer plastischen 
ion der Vi Deformation durch einen abgebrochenen Stanzprozess. In Bild 3a ist die Oberfläche mechanisch po- 
Ar gti liert und anschließend mittels Nital chemisch geätzt worden. Nach der Atzbehandlung werden im 
a Auflichtmikroskop Strukturen innerhalb der Körner sichtbar, die auf ein Deformationsrelief schließen 
DPA. die lassen. Diese Strukturen zeigen von Korn zu Korn verschiedene Orientierungen und konzentrieren 
Am Fuß der sich an Korngrenzen und Tripelpunkten. 
dem sich ie Die Reliefstrukturen, die sich beim Jonenabtrag ergeben, sind den Strukturen, die nach dem chemi- 
Sli schen Atzen sichtbar werden, ähnlich. Sie zeigen von Kom zu Korn ebenfalls eine unterschiedliche 
Sia Orientierung. Verfestigte Bereiche nach erhöhter plastischer Deformation zeigen sich anhand des er- 
fine Msi zeugten Reliefs, wie in Abbildung 3b exemplarisch gezeigt ist. Dartiber hinaus lassen sich in Bild 3b 
den hs Poren mit einer Ausdehnung von Jeweils etwa 20 nm erkennen. Diese befinden sich nahe einer Zone 
mit stärker ausgeprägtem Relief, womit auf einen Zusammenhang zwischen Porenbildung und der 
plastischen Umformung geschlossen werden kann. 
Bild 3: Durch einen abgebrochenen Stanzprozess umgeformte Proben aus DP600. Vergleich von Reliefstrukturen in 
a) Auflichtmikroskopie und 
b) Rasterelektronenmikroskopie 
Bei rasterelektronischen Aufnahmen von größeren Observationsflächen einer Probe ist örtlich eine 
Ansammlung von Poren in Bereichen mit einem stärker ausgeprägten Relief festzustellen. Für die 
Rasterelektronenmikroskopie zeigte sich das ausgebildete Relief nicht als hinderlich. Die erzeugte 
Topographie kann in Bildern mit Sekundärelektronendetektor oder In-Lens-Detektor abgebildet wer- 
den und lässt eine Interpretation der Porenentstehung zu.