328 Prakt. Met. Sonderband 52 (2018) 
Elektronenrückstreubeugung (EBSD, engl.: electron backscatter diffraction) und der 
Rietveldanalyse aus R&ntgenbeugungsexperimenten (XRD, engl: X-ray diffraction) 
verglichen und entsprechend interpretiert. 
2. WERKSTOFFE UND VERFAHREN 
Die im Rahmen dieser Arbeit untersucht TNM-Legierung wurden von der Neue Materialien 
Fürth GmbH (Deutschland) in einer A2X-Elektronenstrahlschmelzanlage der Firma Arcam 
gefertigt. Hierbei wird schichtartig („layer-by-layer“) und selektiv auf CAD Daten basierend 
eine auf eine Bauplattform aufgetragene Pulverschicht mittels eines abgelenkten 
Elektronenstrahls erschmolzen, bevor eine neue Pulverschicht über eine Rakel zugeführt 
wird und der Vorgang wiederholt wird. Der Prozess läuft unter Vakuum ab und resultiert in 
nahezu dichten, endformnahen Bauteilen [5,6]. Chemische Analysen der additiv 
gefertigten Proben ergaben eine Zusammensetzung von Ti-42,1Al-4,1Nb-1Mo-0,1B 
(at. %), wobei der Verlust an Aluminium im Vergleich zur nominellen Zusammensetzung 
auf prozessbedingtes Verdampfen leichter Elemente zurückzuführen ist [8,9]. Die Proben 
wurden zur metallographischen Aufbereitung getrennt, bis zu einer Körnung von 4000 mit 
SiC-Papier nass geschliffen und anschließend mit einer Diamantsuspension (3 um und 
1 pm) und einer OPS-Suspension jeweils zwei Minuten lang poliert. Die A! 
lichtmikroskopischen (LM) Untersuchungen des Probenmaterials wurden an einem Zeiss iid 
Axio Imager M1m durchgeführt. Um eine ausreichende Kontrastierung der vorliegenden Ti 
Phasen zu erreichen wurden die Proben davor mit einem Struers LectroPol-5 einer iE 
Farbatzung nach Ence und Margolin unterzogen [10-12]. Nach einer Atzzeit von 5 s bei ME 
45 V und einer gerétespezifischen Flussrate von 8 heben sich die einzelnen Phasen Bree 
optisch deutlich voneinander ab. Ergänzend wurden rasterelektronenmikroskopische liche 
(REM) Aufnahmen im Rückstreuelektronenkontrast (BSE, engl.: backscattered electrons) Lg 
mittels eines Zeiss EVO 50 mit einer LaBs-Kathode und einer Beschleunigungsspannung aE 
von 15 kV angefertigt. Zur quantitativen Phasenanalyse der LM- und REM-Aufnahmen kro 
wurde die Bildanalysesoftware Stream Motion 1.9.3 von Olympus herangezogen. Hierfür von der 
wurden diverse Filtermethoden zur Kontrast- und Bildschärfen-verbesserung auf die Phasen 
Aufnahmen angewandt, anschließend farbcodiert und ausgewertet. Komplementär wurden RULE 
die Phasenanteile ebenfalls iber EBSD mittels einem mit einer EDAX Hikari XP Kamera BE 
bestiicktem FIB Versa 3D DualBeam von FEI Europe B.V. ermittelt. Die Auswertung De Eroe 
erfolgte mit der Software TSL OIM Analysis 7. Für zusätzliche Informationen zu dieser we 
Methode wird an dieser Stelle auf weiterführende Literatur verwiesen [13]. Zusätzlich SRI 
wurden an dem additiv hergestellten Grundmaterial XRD-Messungen an einem Bruker D8 im Kor 
Advance Diffraktometer mittels Cu-Ka-Strahlung im Winkelbereich von 11-82° und einer Messpur 
Schrittweite von 0,02° in Bragg-Brentano-Anordnung durchgeführt. Die quantitative 7 wol. * 
Rietveld-Phasenanalyse erfolgte anschließend mit der Software Topas von Bruker anhand makroskı 
der in Ref. [14] beschriebenen Richtlinien. Die Mitte 
Rand. D 
3. ERGEBNISSE UND DISKUSSION Das XRD 
Abbildung 1 zeigt Gefügebilder der TNM-Legierung nach der Herstellung über den we 
Elektronenstrahl-Schmelzprozess, aufgenommen mittels LM im farbgeétzten Zustand 4 vo 
(Abb. 1a) und mittels BSE-Kontrast im REM (Abb. 1b). Drei unterschiedliche Phasen mit Teure? 
geordneter Kristallstruktur sind erkennbar: ßo-TiAl (B2-Kristallstruktur), az-TisAl (DO19- gs 
Kristallstruktur) und die intermetallische v-TiAl-Phase. die eine tetragonale L1o-Kristall- i Rar