Full text: Fortschritte in der Metallographie

mit einer hohen 
w. Umformung 
Nerkstoffe aber 
jen Zusatz von 
hasigen Mikro- 
| Behandlung in 
e mechanischen 
x 
Schliffpräparat- ALL Jun 
Abb. 1.1: Durch elektrolytisches Polieren an Ti-47Al-2Cr-0,2Si-Proben entstandene Defekte : (c) Atz- 
griitbchchen im Lichtmikroskop, und (d) Reliefbildung im REM. 
i-48Al-2Cr, Ti- 
anischen Polier- 
\bb.1.1 a,b). Es 2. Versuchsprogramm 
cht wurden und 
ischen Polieren Das Hauptaugenmerk des Versuchsprogramms wurde auf die Verbesserung des Polierens gelegt, also des 
rkeit hochwert- letzten, entscheidenden und bei falscher Durchführung fehlerverursachenden Präparationsschrittes. 
fügebeschaffen- 
zwanzig Jahren 2.1. Optimierung des mechanischen Polierens (MP) 
en Gefügebilder 
Nach den Schleifstufen (siehe Tabelle I) und dem Diamantpolieren (DP) mit der 11um-Paste auf DP-Dur- 
ch verwendeten Tuch [8] wurden folgende Poliervarianten durchgeführt: 
fügedarstellung. 
’rsuchung bzw. Versuch MP 1: 1/41um Diamant auf DP-Nap-Tuch [8], automatisch, Variation von Druck und Zeit. 
hliffeinbettung, Versuch MP 2: Zwischenätzen nach Kroll, kurze Ätzzeit, anschließend weiter wie Versuch MP 1. 
che Polieren als Versuch MP 3: Oxidpolieren (OP) mit OP-S (1/4um SiO, -Suspension mit destilliertem Wasser 
verdünnt) auf OP-Chem-Tuch [8], automatisch, Variation von Druck und Zeit. 
; Versuch MP 4: Zwischenätzen nach Kroll, kurze Ätzzeit, anschließend weiter wie Versuch MP 3. 
y Versuch MP 5 Préparation nach einem modifizierten Verfahren unter Verwendung von konzen- 
: trierter OP-S mit Wasserstoffperoxid und Ammoniak versetzt. 
; 2.2. Optimierung des elektrolytischen Polierens (EP) 
Versuch EP 1 Elektrolyt nach Petzow [7]: 900ml Essigsäure (99,8%) + 60ml Perchlorsäure (65%) 
| Spannung: Variation von 20V—40V; Zeit: Variation von 1s—30s 
Direkter Kontakt auf der Probenoberfliche. 
um Versuch EP 2 Elektrolyt nach Petzow: 900ml Essigsaure (99,8%) + 60ml Perchlorsiure (65%) 
en Spannung: Variation von 20V—>60V; Zeit: Variation von 1s—60s 
;r (Pfeile zeigen E-Polieren mit Polektrol mit Maske Scm? ; Indirekter Kontakt (Probenoberfliache 
Prakt. Met. Sonderbd. 26 (1995) 597
	        
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